Аннотация
Предложена самосогласованная 0-мерная модель плазмы смеси $Cl_2/Ar$ в условиях, типичных для плазмохимического травления поликремниевого затвора. Модель основана на совместном решении уравнений химической кинетики, квазинейтральности плазмы и баланса мощности для условий стационарной плазмы. Решение проводилось методом итераций. В рамках модели учитывались 3 вида нейтральных частиц (Cl2, Ar, радикал Cl) и 4 вида ионов (Cl+, Cl2+, Ar+, Cl-). В качестве входных параметров использовались начальный состав смеси, вкладываемая мощность и давление газа. Получены расчётные данные по влиянию начального состава смеси на физические параметры плазмы и концентрации активных частиц. Результаты качественно согласуются с литературными данными.
Поступила: 7 июня 2024
Статья подписана в печать: 23 августа 2024
PACS:
52.77.Bn Etching and cleaning
52.20.Fs Electron collisions
52.20.Fs Electron collisions
English citation: Investigation of inductively coupled plasma parameters during the etching of a
polysilicon gate
F. V. Oksanichenko
© 2016 Издательство Московского университета
Авторы
Ф. В. Оксаниченко
$^1$АО «НИИМЭ»
$^1$АО «НИИМЭ»