В работе представлены исследования структур покрытие на основе Мо/кремниевая подложка полученных комбинацией ионно-ассистированного и магнетронного осаждения в различных режимах. Показано, что поверхность покрытия имеют структурный состав и проявляют радиационно-стимулированную диффузию молибдена в глубь подложки с концентрацией до 1 ат%, на глубину до 500нм. Полученные покрытия обладают стабильными резистивными и термоэлектрическими свойствами, обладают поверхностью с низкой шероховатостью, не более 2,5нм по площадке 10х10нм, и высокими прочностными характеристиками, твёрдость получаемых покрытий до 70 Гпа, и управляемой смачиваемостью, что делает их пригодными для дальнейшего формирования защитных или функциональных слоев электроники, позволяют формировать из них тонкопленочные ИК- излучателей на основе MoSi2 которые крайне важны при создании оптических газоанализаторов, построенных на принципе бездисперсионной ИК спектроскопии.
52.40.Hf Plasma-material interactions; boundary layer effects
61.80.Ba Ultraviolet, visible, and infrared radiation effects
62.20.-x Mechanical properties of solids
$^1$Белорусский государственный аграрный технический университет, агроэнергетический факультет, кафедра практической подготовки студентов.